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OC废气处理设备从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
作为大气污染的重要来源，工业废气的高校治理尤为重要。由于生产的工艺不同，工业废气产生的污染物种类也不同，不同污染物种类应采用不同的处理工艺。目前，市场上常见的工业废气治理技术主要有：干法脱硫、湿法脱硫、物理/化学吸收法、烟气脱硝、稀释法、碱液中和法等等, 由于使用不同的吸收剂可获得不同的副产物而加以利用，因此湿法脱硫是各国研究多的方法。由于工业废气的成分越来越复杂，单一的废气处理技术方法很难达到理想的处理效果。业内人士认为，综合两种或两种以上处理技术，以及占地空间小、处理效率高的设备将受到市场关注。 资料显示，治理恶臭废气的核心技术是静电等离子废气治理技术，辅助技术是酸碱洗涤技术和生物膜过滤技术。静电等离子技术是静电技术与等离子技术的结合的复合技术，将静电技术的吸附和凝聚特性与等离子技术的荷电和裂解特性有机组合，形成了静电等离子技术的四大技术优势：荷电、裂解、吸附和凝聚，而废气的净化就是这四种特性共同作用完成的。
光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
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